オランダの半導体製造装置メーカー、ＡＳＭＬホールディングの最先端機器は極めて高額との認識を、同社最大級の顧客企業である台湾積体電路製造（ＴＳＭＣ）が14日示した。 アムステルダムで開催されたテクノロジーシンポジウムに参加したＴＳＭＣのケビン・チャン上級副社長はＡＳＭＬの高ＮＡ（開口数）極端紫外線（ＥＵＶ）露光装置について、「非常に高い」と指摘し、「高ＮＡ・ＥＵＶの能力は気に入っているが、販売価格は好ましくない」と述べた。このマシンは１台３億5000万ユーロ（約590億円）。 ＡＳＭＬは最も高度な半導体を製造するために必要な装置を製造する唯一の企業で、同社の製品に対する需要は業界の健全性を示す指標となっている。 米インテルはすでに高ＮＡ・ＥＵＶ露光装置をＡＳＭＬに発注。同社は昨年12月下旬、オレゴン州にあるインテル工場向けに最初の１台を出荷した。しかし、半導体の受託生産で世界最大手のＴＳＭＣ

半導体製造装置の1つであるステッパーといえば、ながらく日本製品の独壇場というイメージが強かった。そのステッパー分野で、一時は世界市場の大半を占有していたキヤノンとニコンが、オランダ企業のASMLに敗れた話を耳にした方も少なくないと思う。1990年時点ではシェアが10％にも満たなかったASML社は、今や65％以上の世界シェアを握っている。 では、ASML社はどうやって勝利したのか。英エコノミスト誌の記事 "Japan's technology champions: Invisible but indispensable" （2009年11月7日号、 翻訳はこちらで読める→「技術立国日本のトップ企業」）によると、こうだ（以下抜粋して引用）。 「キヤノンとニコンは、製造するステッパーは部品を含め、すべてを内製化していた。そこでASML社は製品をモジュール式に設計し直し、各モジュールを専門企業に外

半導体 最後の賭け 日米半導体摩擦から40年。世界一の座から陥落した国内半導体産業に、千載一遇のチャンスが訪れている。敗者から一転、日本陣営が国際連携の鍵を握る主役に躍り出ているのだ。その枠組みの第1弾が、米国・台湾と連携する「国策半導体プロジェクト」である。いまや産業のコメから社会の頭脳となった半導体は、国家の安全保障を担保、産業政策を切り開くための“戦略物資”である。主要国・企業の猛者がうごめく半導体産業において、日本が再びプレゼンスを発揮するには越えるべきハードルは多い。日本の半導体復活に向けて「最後の賭け」が始まった。 バックナンバー一覧 半導体の製造には、電子回路パターンをウエハーに焼き付ける露光装置が不可欠だ。現在、この半導体露光装置市場はオランダのASMLホールディングの独壇場となっており、とりわけ最先端のEUV（極端紫外線）露光装置ではシェア100％を誇る。ところがここにき

最先端の微細化が求められる半導体製造には極端紫外放射技術を使うEUV露光装置(ステッパー)が必要。以下の画像を参考。 2000年くらいまでは露光装置シェアの大半をもっていた日本のニコンやキヤノンは、EUV露光機の開発をすでに諦め、現状ではオランダのASMLのみが生産している状況。 ASMLは独占のEUV露光装置だけで年間約8000億円(2021年度)の売上を出しており、今後はさらに需要が見込まれている中、ニコンやキヤノンもEUV露光装置分野に参入すればいいのでは？と思うところ。 しかし、結論から言えばASMLが確立したEUV露光装置分野で他社がビジネスをやっていくことは難しい。その理由をいろいろ。 最先端半導体チップの製造は難しい 2022年時点では、半導体の微細化プロセスの最先端は5nm(ナノメートル)。2007年ごろの「インテルCore2Duoプロセッサー」が45nmなので、15年前と

時価総額でトヨタに匹敵する「オランダのASML」 オランダにASMLという会社がある。この会社は、オランダの企業の中で時価総額が最大だ。オランダのトップ企業はフィリップスだと思っていた人にとっては驚きだ。「そんな会社、聞いたこともない」という人が多いだろう。実際、ASMLは、歴史の長い企業ではない。 生まれたのは1984年。フィリップスの一部門とASM Internationalが出資する合弁会社として設立された。そして、フィリップスのゴミ捨て場の隣に建てたプレハブで、31人でスタートした。現在の時価総額（＊）は2642億2000万ドル。世界の時価総額ランキングで32位。29位のトヨタ自動車とほぼ並ぶ。時価総額は、トヨタ自動車2742億5000万ドルとほぼ同じだ。世界第678位のフィリップス（293億5000万ドル）の10倍近い（＊時価総額は2022年2月の計数。以下同様）。 ASMLの2

Employees at the ASML Holding NV factory in Veldhoven, Netherlands, in 2014. Photographer: Jasper Juinen 米政府はオランダの半導体製造装置メーカー、ＡＳＭＬホールディングが主要装置を中国に販売するのを禁止するようオランダ政府に強く求めている。事情に詳しい複数の関係者が明らかにした。半導体産業での中国の台頭を抑える米政府の取り組みが拡大している。 関係者によれば、ＡＳＭＬに旧式の深紫外線（ＤＵＶ）露光装置を一部販売させないよう米当局者がオランダ当局に働き掛けている。こうした装置は最先端品からすると一世代前に属するが、自動車や電話、コンピューター、ロボットなどに必要な汎用半導体の一部製造ではなお最も一般的に使われている。 ＡＳＭＬは最先端の極端紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィーシステムについては

1990年代中頃まで、半導体露光装置で、キヤノンとニコンは世界を制覇した。しかし、その後、オランダのASMLがシェアを伸ばし、現在では、EUVと呼ばれる半導体製造装置の生産をほぼ独占している。日本のメーカーは、なぜASMLに負けたのか？ ASMLとは何者？ オランダにASMLという会社がある。時価総額2642.2億ドル。これは、オランダの企業中でトップだ。オランダのトップ企業はフィリップスだと思っていた人にとっては驚きだ。「そんな会社、聞いたこともない」という人が多いだろう。 実際、ASMLは、歴史の長い企業ではない。生まれたのは1984年。フィリップスの1部門とASM Internationalが出資する合弁会社として設立された。フィリップスのゴミ捨て場の隣に建てたプレハブで、31人でスタートした。 しかし、いまの時価総額は、日本のトヨタ自動車2742.5億ドルとほぼ同じだ。世界第678

Inside the machine that saved Moore's Law 「ムーアの法則」救う 世界唯一のEUV装置企業 ASMLの苦難と挑戦 誰もが「ムーアの法則」の行き詰まりを感じていた中で、オランダの企業ASMLは90億ドルと17年をかけて、不可能と見られていた極紫外線によるリソグラフィー装置を完成させ、チップのさらなる高密度化への道を開いた。 by Clive Thompson2021.11.17 25 5 29 パトリック・ウィランは、身につけたクリーンスーツのフェイスプレート越しに事の成り行きを見ていた。 この記事はマガジン「世界を変えるイノベーター50人」に収録されています。 マガジンの紹介 目の前にあるのは輝くガラスのかたまりだ。大きさはオーブントースターほどで、軽量化のため所々がくりぬかれた外観はエイリアンのオブジェを思わせる。ウィランのチームはコーヒーテーブル

ASMLの新型EUV装置、ムーアの法則を今後10年延長可能に：「2nmをはるかに超えるプロセス」可能に（1/2 ページ） ASMLが、新しいEUV（極端紫外線）リソグラフィ装置の開発計画を発表した。EUVリソグラフィツールは今や、世界最先端の半導体市場において非常に重要な存在となっている。その分野で唯一のサプライヤーであるASMLの経営幹部によると、今回の新型装置の開発により、ムーアの法則はこの先少なくとも10年間は延長される見込みだという。 ASMLが、新しいEUV（極端紫外線）リソグラフィ装置の開発計画を発表した。EUVリソグラフィツールは今や、世界最先端の半導体市場において非常に重要な存在となっている。その分野で唯一のサプライヤーであるASMLの経営幹部によると、今回の新型装置の開発により、ムーアの法則はこの先少なくとも10年間は延長される見込みだという。 2023年前半には提供予定

ASMLは9月29日(現地時間)、投資家向けイベントをオンラインで開催し、2030年に向けた長期売上高計画および装置ロードマップについての説明を行った。 それによると、同社は2025年の年間売上高をこれまでの150億～240億ユーロから、約240億～300億ユーロ(約3兆9000億円)へと大幅に上方修正したという。また、2025年時点の粗利益率も直近の51％から54％～56％へと向上すると予測しているほか、2030年までの10年間については約11％の年平均成長率を想定しているとしている。 ASMLの社長兼CEOのPeter Wennink氏は、「非常に収益性が高く、革新的なエコシステムに支えられたエレクトロニクス業界の世界的なメガトレンドは、半導体市場全体の成長を後押しし続けることが期待されている。半導体の最終市場の成長とリソグラフィ分野への設備投資の増加が、ASMLの製品とサービスの需要

7nm以降のロジックデバイスの製造に必須となっているEUVリソグラフィ装置は、ASMLが独占的に販売しているが、その生産能力には限界があり、7nm以降の微細プロセスでの事業拡大を図っているTSMCとSamsung Electronicsがこぞって調達競争を繰り広げている。そんな中、韓国の電子産業専門メディアetnewsが12月14日付けで、「EUVリソグラフィの周辺技術であるマスク向け電子ビーム(EB)マスク描画装置と、マスクの外観検査装置についても、TSMCとSamsungが争奪戦を繰り広げている」と報じている。 同紙は、「これらの装置の生産能力は、EUV露光装置よりも低く、仮にEUV露光装置を必要台数入手できたとしても、これらの周辺装置が確保できなければEUVを用いた半導体デバイスの製造に支障をきたす」としている。EUV向けマルチビーム方式のEBマスク描画装置はオーストリアIMS Na