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6月16日まで開かれた「2005 Symposium on VLSI Technology」(京都市)で、次世代不揮発性メモリ・MRAM... 6月16日まで開かれた「2005 Symposium on VLSI Technology」(京都市)で、次世代不揮発性メモリ・MRAM(Magnetoresistive Random Access Memory:磁気メモリ)の実用化につながる新技術の発表が相次いだ。MRAMは、フラッシュメモリと同様に電源を切ってもデータを保持できる上、読み書きがSRAM並に高速なのが特徴だ。 富士通研は、MRAM混載メモリの大容量化につながる新しい回路方式を発表した。記憶素子(磁気トンネル接合素子、MTJ素子)のばらつきの影響を受けにくくし、LSIに混載した場合にMRAM部分を大容量化しても、LSIの歩留まり低下を抑えることができるという。 ロジックLSIのキャッシュメモリなどとして、SRAMを混載するケースが多い。ただSRAMはメモリセルの素子数が大きいため、容量を増やすとチップ全体の面積が増えてしま