【レポート】半導体リソグラフィ会議、32nmをかけてArF液浸とEUVが激突へ | エンタープライズ | マイコミジャーナル

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【レポート】半導体リソグラフィ会議、32nmをかけてArF液浸とEUVが激突へ | エンタープライズ | マイコミジャーナル

半導体リソグラフィ(露光)技術に関する世界最大の国際会議「31st International Symposium Microlithogr... 半導体リソグラフィ(露光)技術に関する世界最大の国際会議「31st International Symposium Microlithography (Microlithography 2006)」が2月20〜24日に米国シリコンバレーで開催される。半導体はもちろんのこと、露光装置、光源、レンズ、レジスト材料、マスクなどのベンダー企業のエンジニアが世界各地から集まってくる。半導体製造技術の中核であるリソグラフィ技術の行方を探るには、最も適したカンファレンスである。その最終プログラム(ファイナルプログラム)がこのほど公表されたので、概要を紹介する。 Microlithography 2006は、下記に示す6つのカンファレンスで構成されている。 Emerging Lithographic Techno logies(将来のリソグラフィ):2月21〜23日開催 Metrology、Inspect

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citora2006/02/15
viewpoint2006/02/15
MasaHero2006/02/13
mitsuki_engawa2006/02/13

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