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スラッシュドット・ジャパン | カーボン・ナノチューブ、 45nm以降は銅配線よりも有効に
sankaseki のブックマーク 2008/03/22 20:00
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hardware.srad.jp2008/03/21
EETimesの記事より。米Rensselaer Polytechnic Institute（RPI）は、45nm以降のプロセス技術ではカーボン･ナノチューブを使った配線（インターコネクト）の性能が、銅を使った配線の性能を上回ることが判明したと...
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