ZAF（ザフ）補正法
【英】：ZAF correction method
特性X線の分光分析において、目的元素の定量に用いる補正法。試料が厚くなると(測定元素により違いがあるが、ほぼ数10nm以上)、放出される特性X線の強度は原子番号効果、吸収効果、蛍光励起効果を受けるので、これらの三つの効果を補正する必要がある。未知試料と標準試料(単純組成の化合物)から得たX線の相対強度を求め、その値にこれら三つの効果の補正を加える。EPMAの場合は三つの効果の補正をするが、TEMの場合には一番効果の大きい吸収補正だけを考慮することが多い。通常は、試料が薄い場合のクリフ・ロリマー法(薄膜近似法)を適用し、それだけでも比較的高い精度の定量ができる。
特性X線の分光分析において、目的元素の定量に用いる補正法。試料が厚くなると(測定元素により違いがあるが、ほぼ数10nm以上)、放出される特性X線の強度は原子番号効果、吸収効果、蛍光励起効果を受けるので、これらの三つの効果を補正する必要がある。未知試料と標準試料(単純組成の化合物)から得たX線の相対強度を求め、その値にこれら三つの効果の補正を加える。EPMAの場合は三つの効果の補正をするが、TEMの場合には一番効果の大きい吸収補正だけを考慮することが多い。通常は、試料が薄い場合のクリフ・ロリマー法(薄膜近似法)を適用し、それだけでも比較的高い精度の定量ができる。
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