障壁電極型の英語

ショットキー障壁ダイオードは、セミコンダクタ・オン・インシュレータ（ＳＯＩ）基板内の第２の導電型のドーピングを有するドープ保護環（リング）を含み、さらにダミー・ゲート電極の一方の側の、第２の導電型とは反対型の第１の導電型のドーピングを有する第１導電型ドープ半導体領域を含み、そしてショットキー障壁構造部は他方の側がドープ保護環により囲まれる。例文帳に追加

A Schottky barrier diode comprises a doped guard ring having a doping of a second conductivity type in a semiconductor-on-insulator (SOI) substrate. - 特許庁

ｐ型シリコン層５０１１上に、障壁層であるＳｉＯ_2 膜５０１２と、電荷保持担体である金属タングステン５０１４と、絶縁体層であるＳｉＯ_2膜５０１５と、電極層であるｎ型多結晶シリコン電極５０１６とが設けられている。例文帳に追加

An SiO_2 film 5012 serving as a barrier layer, metal tungsten 5014 serving as a charge holder/carrier, an SiO_2 film 5015 serving as an insulator layer, and an n-type polysilicon electrode 5016 serving as an electrode layer are provided on a p-type silicon layer 5011. - 特許庁

ウルツ鉱型結晶構造の半導体を用いた電界効果トランジスタで、電極との接触抵抗を高くすることなく、バンドギャップエネルギーのより大きな半導体から障壁層が構成できるようにする。例文帳に追加

To provide a field-effect transistor using a semiconductor with a Wurtzite crystal structure capable of forming a barrier layer out of a semiconductor having a greater bandgap energy, without increasing contact resistance with an electrode. - 特許庁

ベース電極とコレクタ半導体の電荷注入障壁の制御が可能である、高性能な縦型薄膜のトランジスタ素子および製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a high-performance longitudinal thin-film transistor element that can control a charge implantation barrier of a base electrode and a collector semiconductor, and to provide a method of manufacturing the same. - 特許庁

ｎ因子を増加させることなく、ショットキー障壁高さを電力損失が最小となる範囲内において所望の値に制御可能な、ショットキー電極としてＴａ電極を用いた炭化珪素ショットキー接合型半導体素子およびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a silicon carbide Schottky junction semiconductor device capable of controlling a Schottky barrier height to a desired value, in a range of making a power loss minimum without increasing n-factors while using a Ta electrode as a Schottky electrode, and its manufacturing method. - 特許庁

窒化物半導体に生じる自発分極やピエゾ分極による大きな内部電界とＡｌＮ／ＧａＮ多重障壁層による共鳴トンネル効果を利用し、高密度電子を効率的に放出させる電子放出素子に関するもので、ｎ型ＧａＮ上へＡｌＮ／ＧａＮ多重障壁層と数十ナノメートルのＧａＮ表面層を作製し、電子取出用の表面電極を取り付けたものである。例文帳に追加

This is the electron emitting element which efficiently emits high density electrons by utilizing a large internal electric field by a spontaneous polarization and a piezo polarization generated in the nitride semiconductor and a resonance tunnel effect by an AIN/GaN multiplex barrier layer, and the AIN/GaN multiplex barrier layer and a GaN surface layer of dozens of nanometers are formed on the n-type GaN, and a surface electrode for electron extraction is fitted. - 特許庁

ULSIに有用なショットキー・トンネル接合を利用した電界効果型トランジスタ（ショットキー障壁型MOS FET ）の製造において、ゲート電極やゲート絶縁膜の金属及び金属酸化物が高温プロセスにより劣化するのを防止する。例文帳に追加

To prevent a deterioration of a metal and a metal oxide of a gate electrode or a gate insulating film due to a high temperature process, in manufacturing a field effect transistor (Schottky barrier MOSFET) utilizing a Schottky tunnel junction useful for an ULSI. - 特許庁

放射線の検出媒体として、不純物を人工的にドープしない高純度ＩｎＳｂ単結晶を用い、かつダイオード特性を得るため、Ａｕ・Ｐｄ合金を用いて表面障壁型電極を形成した半導体放射線検出器を製作する。例文帳に追加

The semiconductor radiation detector which uses a high-purity InSb single crystal with no impurities doped artificially as a detection medium of radiation and having a surface-barrier-type electrode, formed using an Au/Pd alloy to obtain diode characteristics, is manufactured. - 特許庁