配線工程とは? わかりやすく解説

配線工程

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2023/10/02 09:30 UTC 版)

配線工程またはバックエンドback end of lineBEOL)とは、半導体製造における2番目の工程であり、それぞれのデバイス(トランジスタ、キャパシタ、抵抗など)がメタル層によって配線される。 配線材料として以前はアルミニウム配線が使われていたが、その後銅配線に置き換わった[1] 。 ウェハー上に最初のメタル層が成膜されてからがBEOLである。


  1. ^ Karen A. Reinhardt and Werner Kern (2008). Handbook of Silicon Wafer Cleaning Technology (2nd ed.). William Andrew. p. 202. ISBN 978-0-8155-1554-8. https://books.google.com/books?id=UPaD8JUCKr0C&pg=PA202 


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配線工程

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2021/08/07 04:17 UTC 版)

半導体デバイス製造」の記事における「配線工程」の解説

配線工程(バックエンド、BEOL)とは、形成したトランジスタ配線する工程のこと。 メタライズ配線銅配線 アルミ配線 多層配線

※この「配線工程」の解説は、「半導体デバイス製造」の解説の一部です。
「配線工程」を含む「半導体デバイス製造」の記事については、「半導体デバイス製造」の概要を参照ください。

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