ステージ裏の英語

裏面に回路などの凹凸部が形成されている基板を載置するステージを提供する。例文帳に追加

To provide a stage for mounting a substrate that has a concavo-convex portion such as a circuit formed on the underside thereof. - 特許庁

このため、樹脂液が半導体ウェハ１１の裏面とウェハステージ１間に浸入する前に、樹脂液がウェハステージ１を通じて吸引され、樹脂液が半導体ウェハ１１の裏面に回り込まずに済む。例文帳に追加

Therefore, the resin liquid is sucked in through the wafer stage 1, before the resin liquid penetrates into the gap between the rear surface of the semiconductor wafer 11 and the wafer stage 1, so that the resin liquid is restrained from entering to the rear surface of the semiconductor wafer 11. - 特許庁

一対のスライドプレート２９，３４のそれぞれをベース板１１の裏面側およびステージ板１２の裏面側に接触させながら、ステージ板１２をベース板１１に対して摺動させてステージ板１２をベース板１１から伸ばし、長孔３８，３９を基準ピン３５，３６に嵌合することによって、このステージ板２をベース板１１に位置決めするようにした。例文帳に追加

While each of a pair of sliding plates 29 and 34 is in contact with the backside of a base plate 11 or the backside of a stage plate 12, the stage plate 12 is slid against the base plate 11 and elongated from the base plate 11, and by engaging an oblong hole with reference pins 35 and 36, the stage plate 12 is positioned on the base plate 11. - 特許庁

本発明の目的は、その上にウエハが載置されるウエハステージと、このウエハステージを取り囲むウエハステージ外側リングとを有するウエハホルダであって、ウエハ裏面の汚染を防止しつつエッジエクスクルージョン（ＥＥ）を減らすためにプラズマ処理チャンバ内で使用されるウエハホルダを提供することである。例文帳に追加

To provide wafer holder including wafer stage on which the wafer is loaded and wafer stage outer-ring surrounding said wafer stage used in the plasma processing chamber for reducing edge exclusion (EE) while preventing wafer backside contamination. - 特許庁

そして、イオナイザー２によりエア又はガスをイオン化して、エア浮上ステージ１に供給し、このエア浮上ステージ１を介して、大型ガラス基板１１の裏側にそのイオン化エアを均一に吹き付ける。例文帳に追加

In this case, air or gas is ionized by the ionizer 2 to supply to the air levitation stage 1, and the ionized air is blown uniformly against the rear side of a large-size glass substrate 11 through the air levitation stage 1. - 特許庁

露光装置は、マークが形成されたマーク基板を固定するレチクルステージ１０５を備え、前記マーク基板の裏面を吸着し、前記マーク基板を前記ステージに着脱可能に固定する固定機構１０１をさらに備える。例文帳に追加

The exposure device comprises a reticle stage 105 for fixing a mark substrate with the mark formed and further, comprises a fixing mechanism 101 for absorbing the rear surface of the mark substrate and fixing the mark substrate to the stage in a detachable manner. - 特許庁

基板の種類に依らず同じステージ構造を取れると共に、レール搬送でありながらステージ上において基板を全面加熱できると共に、基板の裏面を擦らずに搬送することが可能な基板搬送機を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate transfer machine which can take the same stage structure, without depending on the type of the substrate, which can heat the entire surface of the substrate on the stage in a rail conveyance, and which can convey without grinding the rear surface of the substrate. - 特許庁

複数の穴体が設けられたステージと、実装された部品を避けるようにして所定の穴体に設置され、ステージと一体をなしてプリント基板を裏面から支持する反り防止ピンとを有するＳＭＴリペア装置。例文帳に追加

The device for SMT repairing is provided with the stage having a plurality of holes and the warpage-preventing pin that is so provided in the prescribed hole as to avoid the mounted component to support the printed board from the backside in a body with the stage. - 特許庁