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    Daniel_Yang
    Daniel_Yang 光学機器メーカーが、光学に因らない技術でブレイクスルーを為す妙味

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    kyukyunyorituryo
    kyukyunyorituryo キオクシアで採用されているやつ? https://global.canon/ja/technology/nil-2023.html

    2023/10/14 リンク

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    star_123
    star_123 そういうのもあるのか、デメリットは何だろうコスト?

    2023/10/14 リンク

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    mutinomuti ”数十nmの微細構造であるXR向けのメタレンズなど、半導体デバイス以外の用途“が本命では(´・_・`)

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    ookitasaburou “光学系を省くことでマスク上の微細な回路パターンを忠実に再現でき、複雑な2次元/3次元回路パターンを1回のインプリントで形成できるようになる。”

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    nikoli コンタクトホール層以外にも使えるの?

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    chintaro3 柔らかい素材しか加工できなさそう。配線層はいけそうだけど、シリコンもいけるのか?

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    tzk2106 この分野はASML一強ではないってこと?

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    tanakh ナノインプリントリソグラフィものになったんか?(´・_・`)

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    bluescreen TSMCや三星あたりが採用するもんかね。

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    totoronoki 数年前は「EUVには届かないのでは」という評価が多かった気がするが、どうなるか。こっちの方式のほうが優位そうだが。

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    kazuhooku 「回路パターンを刻み込んだマスクを押し付けて回路パターンを形成。光学系を省くことでマスク上の微細な回路パターンを忠実に再現、複雑な2次元/3次元回路パターンを1回のインプリントで形成」

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    yoko-hirom
    yoko-hirom 『2nmノードにあたる最小線幅10nmレベルへの対応も』 Rapidus が要らない子に。

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    lli 立体構造をどうやってマスクでプリントするんだろう。

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    rxshiba
    rxshiba 面白技術ではあるが買うメーカーはどこを想定してるか謎商品ではある

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    quick_past
    quick_past キヤノンはこの分野でシェア取れてないし、露光装置だけだし売れるのかなあ・・・。https://is.gd/Uw5zyP 日本の強みはウェハーくらいになってる

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    xorzx
    xorzx 2017年に東芝メモリに導入されたのが最初みたいね。株価も反応してないし既存の装置と比べて優位性は無い感じ?

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    r2k
    r2k ArFとコスト勝負になると厳しいと思ってたけど、5nmとか完全にEUVの領域じゃん。NANDは勿論、ロジックとDRAMも最先端以外は対応できて、しかもランニングコストでメリットがあるとなると、かなり勝機がある気がしてきた。

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    RySa 代替になるかはスループットとランニングコスト次第。今後の新情報に期待かな。

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    toaruR がんばれー(*´д`*)

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    puhu208n
    puhu208n はんこのように押すのか。摩耗しないんだろうか。

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    Tack2Me
    Tack2Me もう実用レベルに?! まだ研究段階だと思ってた

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    ENUmori0183
    ENUmori0183 EUVの消費電力は決して無視できるようなものではないから、製造装置の消費電力削減には意味があるが。記事のタイトルは意図的な誤認を誘う悪質なもの。

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    a1ue0
    a1ue0 ナノインプリント5nmまじか。研究レベルかと思った。2nmも行けると。

    2023/10/13 リンク

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