「ムーアの法則」の限界を回避できる期待の製造技術「EUVリソグラフィ」とは？

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marmot1123 原理的に回避できてねえw技術向上させて数年延命させただけ。まあそれでもエンジニアすごいと思うが。

ムーアの法則

2016/11/02 リンク

kaeuta 少なくとも10年以上前からムーアの法則を元にしたプロセスのロードマップ上にEUVはあったんだけど、いつの間に限界突破の技術になったんだ…

2016/11/02 リンク

tanakh (´･_･`)いやいや “主要な半導体メーカーは2020年までに「EUVリソグラフィ」の実用化を進めており、数年以内にムーアの法則の限界を回避できる可能性が出てきています。”

2016/11/02 リンク

crosscrow どうしてGIGAZINEはん自分でもよくわかってないこと記事にしてしまうん？

2016/11/02 リンク

minoton 5nmって、1原子の違いが5％ぐらいのずれになるってことだろう？よくやるなあ

2016/11/02 リンク

leb ゲート絶縁膜の厚さは、既に数原子層しかないですよ

2016/11/02 リンク

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「ムーアの法則」の限界を回避できる期待の製造技術「EUVリソグラフィ」とは？

「半導体集積回路の密度が2年ごとに倍増する」という半導体のイノベーションの成長速度を予測した「ムー... 「半導体集積回路の密度が2年ごとに倍増する」という半導体のイノベーションの成長速度を予測した「ムーアの法則」は、近いうちに終焉を迎えると言われています。この法則を提唱したIntelの創業者の1人であるゴードン・ムーア氏も「トランジスタが原子レベルまで小さくなり限界に達する」と述べているのですが、主要な半導体メーカーは2020年までに「EUVリソグラフィ」の実用化を進めており、数年以内にムーアの法則の限界を回避できる可能性が出てきています。 Leading Chipmakers Eye EUV Lithography to Save Moore’s Law - IEEE Spectrum http://spectrum.ieee.org/semiconductors/devices/leading-chipmakers-eye-euv-lithography-to-save-moores-l

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yasuhiro12122021/05/07
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