半導体産業技術研究所／Research Institute for Semiconductor Engineering
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半導体産業技術研究所

半導体研究のオープンイノベーション拠点
　 

研究所紹介
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スーパークリーンルーム

国内最高レベルの環境のもとで
半導体デバイスの設計・作成・評価が一貫して可能な施設

設備/装置
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協働・共創・育成

半導体産業の将来のあるべき姿を描き、
その実現に向けて必要な技術の研究開発と高度人材育成を行う

研究・活動

ニュース

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広島大学半導体産業技術研究所とは

半導体産業の将来のあるべき姿を描き、その実現に向けて必要な技術の研究開発と高度人材育成を行う

　半導体は、自動運転や生成ＡＩなど、近年、ますます重要性が高まっています。その半導体産業の将来のあるべき姿を描き、その実現に向けて必要な技術の研究開発と高度人材育成を行うのが広島大学半導体産業技術研究所です。当研究所は、近年身近に使われるようになったAI技術の基礎と、それを実現するLSI(集積回路)の基礎の研究開発も取組んできました。半導体産業技術研究所は、研究・活動を通じて、高度な人材育成と先端技術開発をおこない日本そして世界の半導体産業の発展に貢献していきます。

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目的・経緯・沿革
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教員・研究員・職員

研究部門と支援･運営

当研究所の組織は３つの部門と研究支援・設備運営室で構成されています。

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半導体戦略研究部門

半導体産業技術の目指すべき方向を策定し世界に発信するとともに、当研究所の進むべき方向を定め、研究開発項目の策定を行っています。
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ナノデバイス研究部門

半導体デバイスの製造技術、新材料、新構造デバイス技術、集積回路設計技術の研究・開発を行っています。
 
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異分野融合研究部門

半導体デバイスの出口である高速通信技術、AI技術の研究を行うとともに、医工連携に関する研究・開発に取り組んでいます。
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研究支援・設備運営室

クリーンルーム等、研究所のファシリティを維持管理し、学内外の利用に供することができるように設備の運営と研究の支援を行っています。

装置／設備

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スーパークリーンルーム
最も洗浄度の高いセクションのクリーン度はクラス10
 
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集積回路評価システム
国内初。600℃の極限環境で評価
 
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イオン注入装置
シリコンに不純物を注入
 
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高周波通信・デバイス評価設備
電波暗室で100GHz程度まで測定が可能
 

主な研究活動

RCBE
文部科学省生体医歯工学共同研究拠点

「文部科学省生体医歯工学共同研究拠点」として、東京医科歯科大学、東京工業大学及び静岡大学の連携研究機関との機能融合により、生体材料、医療用デバイス、医療用システムなどの共同研究を行っています。

詳しく
ARIM
マテリアル先端リサーチインフラ

「文部科学省マテリアル先端リサーチインフラ」として、スーパークリーンルーム及び半導体試作ラインを、全国の研究者・技術者が利用可能な共用インフラとして運用しています。

詳しく
XNICS
次世代X-nics半導体創生拠点

西日本地域唯一の「文部科学省次世代X-nics半導体創生拠点」として、東京工業大学、豊橋技術科学大学と連携し、環境負荷の大幅低減を実現する低減半導体デバイス産業のグリーン化にも取り組んでいます。

詳しく

教員・研究員・職員

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Member
半導体戦略研究部門2 å
ナノデバイス研究部門20 å
異分野融合研究部門22 å
研究支援・設備運営室2 å
客員教員16 å
客員研究員15 å
研究員等22 å
サポーティングスタッフ6 å
教員・研究員・職員 一覧

GALLERY

ギャラリー

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