纯离子真空镀膜设备：PVD纳米、微米膜层

纯离子镀膜设备主要是集纯离子膜技术、高能离子束清洗技术和磁控溅射技术三种技术融合于一体，其独有的纯离子镀膜源专利技术具有电磁过滤系统和高频电磁扫描系统两大创新点，电磁过滤系统可以过滤掉中性粒子、大颗粒离子团等杂质，提高了离化率，使膜层更加致密，硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性也更优异。可以镀制厚度范围从几百纳米到二十多徽米的超级类金刚石Ta-C膜层，还可以利用纯离子技术镀制各种纯金属及金属化合物膜层如:Cr、Cu、Al、Ag、Pt、TiN、TiC、CrN，WC等。

产品特点：

>低温镀膜、高效过滤；

>专利技术、工艺成熟;

>膜层性能优越：硬度高、摩擦系数低;

>多种膜层系列、可大批量高效率生产等。

主要运用：

>汽车和柴油车发动机关键零部件；

>纺织行业关键零部件;

>高校及科研院所；

>刀具模具、医疗器械、消费电子行业等。

膜层特点有:镀膜温度低、无热应力、高纯度、高致密、超硬、无颗粒、耐磨损、摩擦系数小、防刮花、耐腐蚀、均匀性好、粘附性好等。