キセノン

外見
	無色気体、高電圧電界中で青色を示す; ; ; キセノンのスペクトル線
一般特性
名称, 記号, 番号	キセノン, Xe, 54
分類	貴ガス
族, 周期, ブロック	18, 5, p
原子量	131.293(6)
電子配置	[Kr] 5s2 4d10 5p6
電子殻	2, 8, 18, 18, 8（画像）
物理特性
相	気体
密度	(0 °C, 101.325 kPa); 5.894 g/L
融点	(101.325 kPa)161.4 K, -111.7 °C, -169.1 °F
沸点	(101.325 kPa)165.03 K, -108.12 °C, -162.62 °F
三重点	161.405 K (−112 °C), 81.6 kPa
臨界点	289.77 K, 5.841 MPa
融解熱	(101.325 kPa)2.27 kJ/mol
蒸発熱	(101.325 kPa)12.64 kJ/mol
熱容量	(25 °C) 5 R/2 = 20.786 J/(mol·K)
蒸気圧
原子特性
酸化数	8, 6, 4, 2, 1, 0（弱酸性酸化物）
電気陰性度	2.6（ポーリングの値）
イオン化エネルギー	第1： 1170.4 kJ/mol
	第2： 2046.4 kJ/mol
	第3： 3099.4 kJ/mol
共有結合半径	140±9 pm
ファンデルワールス半径	216 pm
その他
結晶構造	面心立方格子構造
磁性	反磁性
熱伝導率	(300 K) 5.65×10-3 W/(m⋅K)
音の伝わる速さ	（液体）1090 m/s、（気体）169 m/s
CAS登録番号	7440-63-3
主な同位体
	詳細はキセノンの同位体を参照
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キセノン（英: xenon、独: Xenon [ˈkseːnɔn]）は原子番号54の元素。元素記号はXe。貴ガス元素の一つ。ラムゼー (W. Ramsay) とトラバース (M. W. Travers) によって1898年に発見された^[3]。

常温常圧では無色無臭の気体。融点-111.9 °C、沸点-108.1 °C。空気中にもごく僅かに（約0.087 ppm）含まれる。固体では安定な面心立方構造をとる。

一般に貴ガスは最外殻電子が閉殻構造をとるため、反応性はほとんど見られない。しかし、キセノンの最外殻 (5s²5p⁶) は原子核からの距離が離れているため、他の電子による遮蔽効果によって束縛が弱まっており、比較的イオン化しやすい（イオン化エネルギーが他の貴ガス元素に比べて相対的に低い）。このため、反応性の強いフッ素や酸素と反応して、フッ化物や酸化物を形成する。

名称

ギリシャ語で「奇妙な」「なじみにくいもの」を意味する ξένος (xenos) の中性単数形の ξένον (xenon) が語源。英語圏ではゼノン (/ˈzɛnɒn/、/ˈziːnɒn/) と発音されることが多い。

用途

キセノンランプに封入されたり、イオン推進エンジンの推進剤に使用される。また断熱性能が空気よりも高いため、複層ガラスに封入する断熱材としても有効である。

医療

麻酔作用を有する事が1946年に報告された以降に研究が始まり、2005年にはドイツで臨床許可が出された^[4]。麻酔薬としては、理想的な性質（「導入・覚醒が早い」、「鎮痛作用を持つ」「術中の循環動態が安定する」、「脳保護作用を持つ」、「術後認知機能障害を予防できる可能性がある」）などと報告されている^[5]。20〜50%程度の酸素を混合した混合ガスが一部病院では試験的に導入された^[5]^[6]。ただし純粋なキセノン自体が高価なことや術後悪心嘔吐の副作用もあり、一般には普及しなかった^[5]。しかも、麻酔の際には閉鎖循環式回路での使用が必要で特段の利点もないとの指摘もある(一般の全身麻酔に用いられる回路は半閉鎖式回路である)^[5]。

素粒子物理学

暗黒物質（ダークマター）の直接検出を目論んでいるXMASS検出器では、暗黒物質を検出するために-100 °Cの液体キセノンで満たしたセンサーが用いられる。これは暗黒物質がキセノン原子核と衝突して放つシンチレーション光を光電子増倍管で捕捉する仕組みで、東京大学の神岡宇宙素粒子研究施設で2011年春から稼動予定であった^[7]^[8]が、2010年からの試運転の結果、検出器を構成する素材が予想外に多くのバックグランドを含んでいることが判明、そのバックグランドを減らす改修が行われ2013年11月に再運転し^[9]^[10]観測が行われている。

生産・精製

空気中からの単独精製は行われることはない。液体酸素・液体窒素・液化アルゴンを生産するために大型空気分離装置における断熱膨張（ジュール＝トムソン効果）により、液化した空気からの分留残（副産物）から回収精製される^[11]。

化合物

化学結合を備えた最初の貴ガス化合物として、1962年5月、カナダのブリティッシュコロンビア大学のネイル・バートレットとD.H.ローマンによってヘキサフルオロ白金酸キセノン (XePtF₆) が合成された^[12]。酸素分子 O₂ を酸化するヘキサフルオロ白金酸の反応から類推し、O₂ (12.2 eV) とほぼ同じイオン化エネルギーを持つキセノン (12.13 eV) を酸化できるのではと考えたことが成功の鍵であった。8月には XeF₄ が、同年末は XeF₂ と XeF₆、2011年には XeO₂ も合成された。

ハロゲン化物

キセノンはフッ素単体の混合比を調節してニッケル管中で加熱し、急冷すると四フッ化キセノン XeF₄ あるいは二フッ化キセノン XeF₂ を生成し、加圧条件下で同様に加熱すると六フッ化キセノン XeF₆ を与える。

いずれのフッ化物も水に容易に加水分解される。XeF₆、XeF₄ は強力なフッ素化剤である。XeF₄ はベンゼンなどの芳香族化合物の水素をフッ素化することができ、XeF₆ に至っては石英とさえ反応し SiF₄ を与える。また、XeF₂ は温和なフッ素化試剤として利用される。

酸化物

六フッ化キセノン XeF₆ または四フッ化キセノン XeF₄ は水と反応し、三酸化キセノン XeO₃ を与える。^[13]

{\ce {XeF6 + 3H2O -> XeO3 + 6HF}}

XeO₃ は三角錐型の構造を持ち、爆発性の化合物である。XeO₃ はアルカリ条件下、Xe^VIII と Xe⁰ に不均化する。

{\ce {2XeO3 + 4OH^- -> XeO6^4- + Xe + O2 + 2H2O}}

また、反応性の高い XeF₆ を石英 SiO₂ と反応させると四フッ化酸化キセノン XeOF₄ を生成する。

他の例として、XeO₃ と XeOF₄ から XeO₂F₂ が、XeF₆ と NaXeO₆ から XeO₃F₂ が生成する。低温で水と混合し、紫外線を照射するとキセノン2原子を含む分子 HXeOXeH が生成する^[14]。

有機キセノン化合物

C₆F₅BF₂ と XeF₄ をジクロロメタン中で混合することにより、[C₆F₅XeF₂]⁺[BF₄]^- が合成されている^[15]。

同位体

→詳細は「キセノンの同位体」を参照

同位体

^131mXe は、半減期約2日で ¹³¹I のベータ崩壊により生成され^[16]、ベータ線を放出し ¹³¹Xe になる。
¹³³Xe は、半減期約5.2日でベータ崩壊し安定同位体の ¹³³Cs になる。
- 地下核実験では時間が経つにつれて大気中にキセノン133が放出されるので実験の成功・失敗の判断の一部にキセノン133の大気中への放出を調べることがある。
¹³⁴Xe は、¹³⁴Cs の崩壊により生成された ¹³⁴Ba が軌道電子を捕獲し生成される。
¹³⁵Xe は、ウランの核分裂により生成する。
- 中性子捕獲の反応断面積が大きく、原子炉の出力を変化させた際にキセノンオーバーライドという現象を起こし、原子力発電の分野では「毒物質」（原子炉の制御を難しくする物質）として扱われる。

参考文献

[脚注の使い方]

^ Lide, David R. (2004). “Section 4, Properties of the Elements and Inorganic Compounds; Melting, boiling, triple, and critical temperatures of the elements”. CRC Handbook of Chemistry and Physics (85th edition ed.). Boca Raton, Florida: CRC Press. ISBN 0849304857
^ Magnetic susceptibility of the elements and inorganic compounds, in Handbook of Chemistry and Physics 81st edition, CRC press.
^ 桜井弘『元素111の新知識』講談社、1998年、245頁。ISBN 4-06-257192-7。
^ 水原敬洋、後藤隆久、「キセノン麻酔について－利点，欠点，将来の展望－」日本臨床麻酔学会誌 Vol.33 (2013) No.5 p.736-741, doi:10.2199/jjsca.33.736
^ ^a ^b ^c ^d 後藤隆久 (2009). “キセノン麻酔”. Anesthesia 21 Century 11: 60-63.
^ “キセノン麻酔”. www.med.teikyo-u.ac.jp. 2023年3月20日時点のオリジナルよりアーカイブ。2023年3月20日閲覧。
^ XMASS実験
^ https://web.archive.org/web/20100214064140/http://www.yomiuri.co.jp/space/news/20100212-OYT1T00164.htm
^ XMASS実験装置の改修東京大学宇宙線研究所 2014年6月26日
^ XMASS-I full volume - 極低バックグラウンド素粒子原子核研究懇談会 (PDF)
^ レアガス（Ne・Kr・Xe）　エア・ウォーター
^ N. Bartlett, Proc. Chem. Soc. 1962, 218.
^ https://chemiday.com/en/reaction/3-1-0-13338
^ Leonid Khriachtchev et al., "A Small Neutral Molecule with Two Noble-Gas Atoms: HXeOXeH", J. Am. Chem. Soc., 130 (19), 6114–6118, 2008. doi:10.1021/ja077835v
^ H.-J. Frohn et al., Angew. Chem. Int. Ed., 39, 391 (2000)
^ ヨウ素-131 原子力資料情報室 (CNIC)

外部リンク

『キセノン』 - コトバンク

[1] Lide, David R. (2004). “Section 4, Properties of the Elements and Inorganic Compounds; Melting, boiling, triple, and critical temperatures of the elements”. CRC Handbook of Chemistry and Physics (85th edition ed.). Boca Raton, Florida: CRC Press. ISBN 0849304857

[2] Magnetic susceptibility of the elements and inorganic compounds, in Handbook of Chemistry and Physics 81st edition, CRC press.

[sakurai-3] 桜井弘『元素111の新知識』講談社、1998年、245頁。ISBN 4-06-257192-7。

[4] 水原敬洋、後藤隆久、「キセノン麻酔について－利点，欠点，将来の展望－」日本臨床麻酔学会誌 Vol.33 (2013) No.5 p.736-741, doi:10.2199/jjsca.33.736

[:0-5] 後藤隆久 (2009). “キセノン麻酔”. Anesthesia 21 Century 11: 60-63.

[goto-6] “キセノン麻酔”. www.med.teikyo-u.ac.jp. 2023年3月20日時点のオリジナルよりアーカイブ。2023年3月20日閲覧。

[7] XMASS実験

[8] ttps://web.archive.org/web/20100214064140/http://www.yomiuri.co.jp/space/news/20100212-OYT1T00164.htm

[9] XMASS実験装置の改修東京大学宇宙線研究所 2014年6月26日

[10] XMASS-I full volume - 極低バックグラウンド素粒子原子核研究懇談会 (PDF)

[11] レアガス（Ne・Kr・Xe）　エア・ウォーター

[12] N. Bartlett, Proc. Chem. Soc. 1962, 218.

[13] ttps://chemiday.com/en/reaction/3-1-0-13338

[14] Leonid Khriachtchev et al., "A Small Neutral Molecule with Two Noble-Gas Atoms: HXeOXeH", J. Am. Chem. Soc., 130 (19), 6114–6118, 2008. doi:10.1021/ja077835v

[15] H.-J. Frohn et al., Angew. Chem. Int. Ed., 39, 391 (2000)

[16] ヨウ素-131 原子力資料情報室 (CNIC)

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表話編歴キセノンの化合物
Xe(0)	AuXe₄(Sb₂F₁₁)₂
Xe(II)	XeBr₂ XeCl₂ XeF₂ XePtF₆
Xe(IV)	N(CH₃)₄XeF₅ XeF₄ XeCl₄ XeO₂ XeOF₂
Xe(VI)	(NO)₂XeF₈ H₂XeO₄ XeF₆ XeO₃ XeOF₄ XeO₂F₂
Xe(VIII)	H₄XeO₆ XeO₄ XeO₃F₂
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生産・精製

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関連項目

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