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Weblio専門用語対訳辞書での「Ti系」の英訳

Ti系

Weblio専門用語対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「Ti系」を含む例文一覧

該当件数 : 6



例文

To form a Ti-based self diffusion barrier film on a wiring surface, even if a Cu-Ti-based sputter film is heat-treated at a temperature lower than the conventional temperatures.例文帳に追加

Cu-Ti系スパッタ膜を従来よりも低い温度で熱処理しても、配線表面にTi系自己拡散バリア膜を形成できるようにする。 - 特許庁

After forming an extremely thin Ti-based film on a base material 1 as a first film 2, by having a compound film including a slope structure of a Ti-based material of a Ti-based material and a Cu-based material formed as a second film 3, and a third film 4 formed on the compound film as a Cu-based electrode, a precursor having a three-layer structure is formed.例文帳に追加

極薄のTi系膜を第一の膜2として基材1上に形成した後、Ti系材料のTi系材料とCu系材料との傾斜構造を持つ複合膜を第二の膜3として形成し、その上にCu系電極となる第三の膜4を形成することにより、3層構造の前駆体を形成する。 - 特許庁

To provide a Ti-based amorphous alloy having a large temperature width of a supercooled liquid region and a strength sufficient for practical use.例文帳に追加

過冷却液体領域の広い温度幅を有し、且つ、実用に耐えうる強度を有するTi系非結晶質合金を提供する。 - 特許庁

By heat-treating the precursor at 450C° or lower, the Cu-based electrode including the Ti-based barrier film can be formed.例文帳に追加

この前駆体を450℃以下で熱処理することで、Ti系バリア膜を有するCu系電極を形成することが可能となる。 - 特許庁

To provide a method for producing an Ni-Ti based shape memory alloy by continuously producing an Ni-Ti laminated metallic strip with a desired shape in industrially, sufficiently practicable technical ranges, i.e., at ordinary temperature and low rolling ratio and performing heating diffusion treatment.例文帳に追加

工業的に十分実用可能な技術の範囲で、即ち、常温において低い圧延率で所望の形状をもったNi-Ti積層金属帯を連続生産し、加熱拡散処理を施してNi-Ti系の形状記憶合金を製造する方法を提供する。 - 特許庁

例文

Surfaces of final annealed, single directional silicon steel sheets are coated by insulation films comprising 0.01-0.2 μm thick Ti(N, O) oxide film on which 0.01-0.2 μm thick SiNx ceramics film is coated, the latter in turn being covered by 0.01-2.0 μm thick film consisting of phosphate and silica as major elements.例文帳に追加

仕上焼鈍済みの一方向性けい素鋼板の表面に、0.01〜0.2 μm 厚のTi系の窒・酸化物被膜〔Ti(N,O) 膜〕、その上に0.01〜0.2 μm 厚のSiN_X 系セラミック被膜、さらにその上に0.01〜2.0 μm 厚のりん酸塩とシリカを主成分とする絶縁被膜を被成する。 - 特許庁

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