欠準位の英語

潜在する赤目欠陥の位置が突き止められ、そして再検査基準にもとづき、実際に赤目欠陥が存在するかどうかが判定される。例文帳に追加

A position where the potential red-eye defects are located is found, and a decision is made, based upon reinspection criteria, as to whether there are, indeed, red-eye defects. - 特許庁

画像処理回路５で欠陥が検出されたときは、検出された欠陥について基準エッジ位置を基準とした座標を欠陥座標算出回路６で求める。例文帳に追加

When the flaw of the inspection target 1 is detected in the image processing circuit 5, the coordinates based on the reference edge position are calculated with respect to the detected flaw in a flaw coordinates calculating circuit 6. - 特許庁

欠品判別手段２０ａは、基準位置算出手段が算出した基準位置を基準として、内容物のＸ線透過画像と設定された欠品検出用マスク領域とを重ね合わせて内容物の欠品の有無を判別する。例文帳に追加

A missing item discriminating means 20a overlaps the X-ray transmission image of the contents to the set mask region for missing item detection, for discriminating the presence or absence of the missing item of the contents with the reference position calculated by the reference position calculation means set as a reference. - 特許庁

演算手段には、欠陥の種類に応じて予め設定された切断位置に関する判断基準が記憶されており、演算手段は、欠陥検査手段から出力された欠陥の種類と、判断基準とに基づき、仮の切断位置を切断位置とするか、或いは、欠陥検査手段から出力された欠陥の位置を切断位置とするかを決定する。例文帳に追加

A criterion of the cutting position previously set in accordance with the type of defect is stored in the arithmetic means, which decides, based on the type of defect outputted from the defect inspecting means and on the criterion, which is to be the cutting position, the tentative cutting position or the position of the defect outputted from the defect inspecting means. - 特許庁

欠陥検出手段で検出した欠陥の位置座標を基準にして、その近傍にイオンビームなどによってマーキングし、試料を透過型電子顕微鏡で観察して、マーキングと欠陥との相対位置関係から、欠陥部を特定し、目的とする欠陥部を含む試料を確実に作製する。例文帳に追加

In this method, based on position coordinates of the defect detected by defect detecting means, marking is made in the vicinity of the defect by using an ion beam, etc., sample is monitored with transmission electron microscope to specify the defective section from relative positional relationship between the marking and the defect, and then sample including the target defective section will surely be prepared. - 特許庁

欠陥検出手段で検出した欠陥の位置座標を基準にして、その近傍にイオンビームなどによってマーキングし、試料を透過型電子顕微鏡で観察して、マーキングと欠陥との相対位置関係から、欠陥部を特定し、目的とする欠陥部を含む試料を確実に作製する。例文帳に追加

In this method, based on position coordinate of the defect detected by defect detecting means, marking through ion beam, etc. is provided around the position coordinate, sample is observed with a transmission electron microscope to identify the defective area from relative positional relationship between the marking and the defect, reliably preparing sample which contains the target defective area. - 特許庁

位置ずれ欠陥検出手段１３ｄにおいて、位置合わせ量が基準位置合わせ量と所定値以上相違するフレームのパターンが位置ずれ欠陥として検出される。例文帳に追加

In a positional shift flaw detection means 13d, the pattern of the frame, wherein the aligning quantity is differentiated from the reference aligning quantity by a predetermined value or above, is detected as the positional shift flaw of the pattern. - 特許庁

欠陥が検出された場合、その位置を基準マークからの相対位置として記録する（ステップＳ１０７）。例文帳に追加

When a defect is detected, the position of the defect is recorded as a relative position to the reference mark (step S107). - 特許庁