斜方蒸着法の英語

蒸着機をいじることなく、斜方蒸着配向膜を均一な膜厚にできる液晶表示素子とその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a liquid crystal display element capable of forming an oblique deposition orientation film with a uniform film thickness, without modifying a deposition machine, and a manufacturing method therefor. - 特許庁

このうち、第１の蒸着膜４ａは、蒸着分子４の配向方向に対して液晶分子６が垂直に配向される膜で、例えば基板Ｗ表面の法線Ｌｖに対して６０°程度の角度（蒸着角度θ１）から蒸着分子４を供給する斜方蒸着によって得られる。例文帳に追加

The first alignment film 4a aligns the liquid crystal molecules 6 perpendicular to the orientation direction of the vapor deposited molecules 4, and for example, the film is obtained by oblique vapor deposition by supplying the vapor deposition molecules 4 at an angle of about 60° (vapor deposition angle θ1) with respect to the normal line Lv of the substrate W surface. - 特許庁

また第２の蒸着膜４ｂは、蒸着分子４の配向方向に対して液晶分子６が平行に配向される膜で、基板Ｗ表面の法線Ｌｖに対して８５°程度の角度（蒸着角度θ２）からから蒸着分子４を供給する斜方蒸着によって得られる。例文帳に追加

The second vapor deposition film 4b aligns the liquid crystal molecules 6 parallel to the orientation direction of the vapor deposited molecules 4, and the film is formed by oblique vapor deposition by supplying the vapor deposition molecules 4 at an angle of about 85° (vapor deposition angle θ2) with respect to the normal line Lv of the substrate W. - 特許庁

斜方蒸着装置、スクリーンの製造方法及び搬送方向変更装置例文帳に追加

OBLIQUE VAPOR DEPOSITION APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING SCREEN, AND DEVICE FOR CHANGING CONVEYING DIRECTION - 特許庁

無機配向膜層４１は例えば斜方蒸着法により形成され、有機配向膜層４２は、蒸着材料としてアクリルモノマーを用いたイオン蒸着法により形成される。例文帳に追加

The inorganic oriented film layer 41 is formed by, for example, a rhombic vapor-deposition process and the organic oriented film layer 42 is formed by an ion vapor-deposition process using an acrylic monomer as a vapor deposition material. - 特許庁

斜め蒸着装置、液晶表示素子およびその製造方法、並びに投射型表示装置例文帳に追加

DIAGONALLY VAPOR-DEPOSITING APPARATUS, LIQUID CRYSTAL DISPLAY, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND PROJECTION TYPE DISPLAY DEVICE - 特許庁

基材表面に棒状液晶化合物をＰＶＤ法により斜方蒸着して蒸着膜を形成した後、該蒸着膜をこの化合物のスメクチック相の温度域で熱処理する。例文帳に追加

After oblique evaporation of the cylindrical liquid crystal compound is performed on the surface of a substrate by a PVD method and an evaporated film is formed, the evaporated film is heat-treated in temperature region of smectic phase of this compound. - 特許庁

特に大型で薄型の基板であっても、膜厚分布および蒸着角度分布が均一となるように蒸着膜を形成することができ、しかも同時に複数枚の基板に対して蒸着処理が可能であり、生産性に優れ、さらに装置の小型化を図ることができ、メンテナンス性にも優れた斜め蒸着装置および斜め蒸着方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an apparatus of oblique vapor deposition, which forms such a vapor deposited film even on a particularly large and thin substrate as to have uniform distribution of film thickness and depositing angles, allows a simultaneous vapor deposition on several substrates, is superior in productivity and maintenance, and further allows miniaturization of the apparatus, and to provide a method of oblique vapor deposition. - 特許庁