レジはなくなるの英語

上記の親水処理により、第２レジスト層１４となるドライフィルムレジストは第１レジスト層１３の表面１３ａに熱圧着させることなく粘着力のみにより固着している。例文帳に追加

Due to the above hydrophilic treatment, a dry film resist that serves as a second resist layer 14 is fixed to the surface 13a of a first resist layer 13 only by an adhesive force, not by thermo-compression bonding. - 特許庁

乗算器レジスタと被乗数レジスタからなるグループから選択された少なくとも１個のレジスタが前記乗算累算コアの入力側に配置されている。例文帳に追加

At least one register selected from a group consisting of the multiplier register and the multiplicand register is arranged on the input side of the multiplication/accumulation core (320). - 特許庁

ドライフィルムレジスト１を基板３にラミネ−ト装置において、レジストが圧着ロ−ルへの汚染することがなくラミネ−トできるとともに幅の異なるドライフィルムレジストでも適用できるようにする。例文帳に追加

To provide a laminating device which is capable of laminating without contamination of a resist to a pressure roll and receives even a dry film resist having differing width for application. - 特許庁

配線部の表面の一部がソルダーレジストにて被覆されたインターポーザ基板の表面にソルダーレジストを介して半導体チップを搭載してなる半導体装置において、ソルダーレジストや配線部の構成を変更することなく、ソルダーレジストへ加わる応力の集中を低減する。例文帳に追加

To obtain a semiconductor device is constituted by mounting a semiconductor chip, through solder resist, on the surface of an interposer substrate partially coated with the solder resist at the wiring section wherein concentration of stress on the solder resist is reduced by altering the arrangement of the solder resist and the wiring section. - 特許庁

製品基板を汚染する事なしにホトレジスト廃液を完全に回収することができ、ホトレジスト廃液の乾燥によってホトレジスト廃液の回収率が低下してしまうことがなく、ホトレジストの分離回収効率が高くなるようにする。例文帳に追加

To provide a system and method for separating and recovering waste liquid by which a photoresist waste liquid can be recovered completely, without contaminating product substrate and the separating and recovering efficiency of a photoresist can be improved, without lowering the recovery of the waste photoresist liquid by preventing drying of the liquid. - 特許庁

このとき、配線部からの反射光は少なくなり、レジスト露光部９ｃのパターン形状は過露光によっても拡大しなくなる。例文帳に追加

In this case, a light reflected from wiring part becomes weak and the pattern shape of the exposed resist part 9c is not enlarged even with an excessive exposure. - 特許庁

これにより、複数のシナリオがほぼ同じタイミングで同一のレジスタに書き込まれることがなくなるので、それぞれの検証作業で意図しないレジスタ設定となることを回避することができ、テスト設計者は他のテストとのレジスタ競合を考えることなくテストを設計することができる。例文帳に追加

In this way, a plurality scenarios are not written in the same register in substantially the same timing, and consequently, unintended register setting is not set during each verification work and the test designer can design a test without taking register competition with the other test into consideration. - 特許庁

レジスト膜に当該高分子化合物を用いた場合、基板密着性が高くなると共に、該レジスト膜は膨潤性が無くて現像溶解性に優れレジストパターンの形状が良好。例文帳に追加

When the polymer compound is used for forming a resist film, the film has the increased adhesion to the substrate, has the excellent solubility in the developing solution, without having a swelling effect, and forms a good resist pattern. - 特許庁