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デポの英語
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英訳・英語 depot
「デポ」を含む例文一覧
該当件数 : 83件
デポ・エージェント・システム(預入事務代行制度)例文帳に追加
DEPOSITING AGENT SYSTEM - 特許庁
加熱部材を薬剤デポ部位の近くに置き,薬剤デポ部位の中および近くで熱を発生させる。例文帳に追加
A heating component is placed near the drug depot site and generates heat in and near the drug depot site. - 特許庁
この結果、i基板1上にデポ膜5が生成する。例文帳に追加
As the result of this etching, a deposit film 5 is formed on the Si substrate 1. - 特許庁
半導体ウェハに含まれるデポ物を除去でき、アルミ配線等を腐食させない、デポ物の除去方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for removing deposits for removing the deposits contained in a semiconductor wafer and preventing the corrosion of aluminum wiring or the like. - 特許庁
すると、堆積したデポが、ストッパプレート8とデポトラップ室7との間の摺動クリアランスS2を塞ぎ、デポが軸受5に到達しなくなる。例文帳に追加
Then, the accumulated deposit fills a sliding clearance S2 between the stop plate 8 and the deposit trap chamber 7 and makes deposit not easily reach the bearing 5. - 特許庁
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「デポ」を含む例文一覧
該当件数 : 83件
本発明は,患者の皮膚の下の薬剤デポ中の薬剤を含む。例文帳に追加
The invention comprises a drug beneath a patient's skin in a drug depot. - 特許庁
乾式デポ物補集用低密度フィルターエレメント及びその製造方法例文帳に追加
DRY TYPE LOW DENSITY FILTER ELEMENT FOR CAPTURING DEPOSITED MATTER AND ITS MANUFACTURE - 特許庁
デポ膜形成のための交換可能な部材をウエハ載置電極外周部に設置し、ウエハ載置電極側面へのデポ膜形成を抑制する。例文帳に追加
A replaceable member for forming a deposit film is installed on an outer periphery of a wafer mounting electrode to suppress a formation of the deposit film on the side face of the wafer mounting electrode. - 特許庁
反応層31は、表面変性層20上に堆積されたデポ物を洗浄により部分的に除去しデポ層とした後に、第1金属層11に含まれるTiとデポ層とが熱処理により部分的に反応し形成される。例文帳に追加
The reaction layer 31 is formed, by partially reacting Ti contained in a first metal layer 11 with a deposition layer, after partially removing the deposited substance on the denaturation layer 20 through rinsing, to form a deposition layer. - 特許庁
デポの付着、堆積による軸受ロックが発生しないEGRバルブを提供する。例文帳に追加
To provide an EGR valve preventing bearing lock due to adhesion and accumulation of deposit. - 特許庁
片持ちフラップ型の吸気流動制御弁12のデポ固着を回避可能とする。例文帳に追加
To avoid deposit fixation of a cantilever flap type intake air flow control valve 2. - 特許庁
ガスの流れが乱されることを抑制しつつ、デポ物の付着量を増加させる。例文帳に追加
To suppress the flow of gas from being disturbed, and to increase the amount of deposit. - 特許庁
その後、トレンチエッチング工程において生成するデポ物110はその隙間に堆積されるため、デポ物110が低誘電率膜104のエッチング時におけるマスクとなることはない。例文帳に追加
Since deposits 110 produced in a trench-etching step performed thereafter are caused to deposit in the gap, the deposits 110 do not become a mask at the time of etching the film 104. - 特許庁
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